Allez au contenu Allez à la navigation

Sébium riebios odos valomasis putojantis geli - veido, kūno prausimui
100 ml
250 ml
500 ml

Sébium
H2O

Micelinis valomasis vanduo riebiai ir mišriai, į aknę linkusiai odai.

  • Riebiai, mišriai bei į aknę linkusiai odai.

VeidasSuaugusiejiPaaugliai

  • Švelnai valo veidą ir akis, pašalina visų tipų makiažą
  • Iš karto suteikia odai gaivumo ir švaros pojūtį
  • Reguliuoja odos riebalų išsiskyrimą
  • Neleidžia atsirasti naujiems inkštirams – slopina odos riebalų tirštėjimą

 

  • Dermatologiškai patikrintas
  • Hipoalerginis
  • Nekomedogeninis
  • Neukemša porų
  • Malonaus kvapo
  • Tinka kasdieniam naudojimui
  • Buteliukas, 100 ml
  • Buteliukas, 250 ml
  • Buteliukas, 500 ml

Biologinis veikimo būdas

Sébium H2O yra pirmasis makiažą pašalinantis micelinis valomasis vanduo specialiai pritaikytas riebios, mišrios bei į aknę linkusios odos biologijai.
Micelinis vanduo yra sudarytas iš micelių - ypatingų mikrodalelių, kurios savo sudėtimi yra artimos mūsų odos ląstelių biologijai, todėl yra puikiai toleruojamas ir tinka net jautriausiai odai.
 
• Sébium H2O švelniai valo veidą ir akis, pašalina visų tipų makiažą (fiziologinis pH, be AHA).
• Veikia antibakteriškai (vario sulfatas, cinko gliukonatas).
• Biologiškai reguliuoja odos riebalų išsiskyrimą (cinko gliukonatas).
• Dėl valomojo vandens sudėtyje esančių ingredientų Sébium H2O neleidžia atsirasti naujiems inkštirams – slopina odos riebalų tirštėjimą.

 

Instrukcijos naudojimui

• Naudoti ryte ir/arba vakare, 7 dienas per savaitę. Nereikia nuplauti.
• Sudrėkinkite vatos diskelį Sébium H2O.
• Drėgnu vatos diskeliu valykite veidą ir pašalinkite visus nešvarumus bei makiažą.
• Kartokite procedūrą tol, kol vatos diskelis liks švarus.

Ingredientai - INCI

AQUA/WATER/EAU, PEG-6 CAPRYLIC/CAPRIC GLYCERIDES, SODIUM CITRATE, ZINC GLUCONATE, COPPER SULFATE, GINKGO BILOBA LEAF EXTRACT, MANNITOL, XYLITOL, RHAMNOSE, FRUCTOOLIGOSACCHARIDES, PROPYLENE GLYCOL, CITRIC ACID, DISODIUM EDTA, CETRIMONIUM BROMIDE, FRAGRANCE (PARFUM). [BI 442]